普林斯頓電化學工作站 時(shí)間:2023-03-13
無論是(shì)燃料電池催化劑,還是(shì)電解水催化劑而(ér)言,催化劑的(de)真實電化學面積(ECSA)都非常重要(yào / yāo),這(zhè)是(shì)确定和(hé / huò)比較催化劑性能非常重要(yào / yāo)的(de)參數之(zhī)一(yī / yì /yí)。雖然測試ECSA的(de)方法有很多種,比如循環伏安(CV),欠電位沉積(UPD)和(hé / huò)CO溶出(chū)等方法,但電化學交流阻抗(EIS)作爲(wéi / wèi)一(yī / yì /yí)種原位,無損,快速的(de)檢測方法。EIS不(bù)僅可以(yǐ)推算出(chū)雙電層電容計算出(chū)ECSA,也(yě)可以(yǐ)給出(chū)粉末的(de)堆積密度和(hé / huò)平均孔徑等信息。
在(zài)此研究中,EIS計算雙電層電容,是(shì)基于(yú)純的(de)支撐電解質及無化學反應的(de)前提下。因此,電極在(zài)理想的(de)極化電壓範圍内。在(zài)這(zhè)種情況下,總的(de)阻抗可以(yǐ)描述爲(wéi / wèi)Zt=Rs+1/jwCdl, Rs爲(wéi / wèi)溶液電阻(W),Cdl爲(wéi / wèi)電極的(de)雙電層電容(F),w爲(wéi / wèi)角頻率,j=,複平面曲線中顯示電容的(de)斜線與實軸相交的(de)交點即Z’=Rs。這(zhè)種情況發生于(yú)0.4-0.7V 範圍内的(de)多晶Pt。實際情況是(shì),雙電層電容需要(yào / yāo)由常相元素(CPE)代替,總阻抗可以(yǐ)描述爲(wéi / wèi)
孔洞電極的(de)制備
孔洞電極的(de)制備過程如下,将直徑127um的(de)金絲插入玻璃毛細管(長度9cm,0.75 mm内徑,1.5mm 外徑),金絲與銅絲通過點焊連接,毛細管的(de)一(yī / yì /yí)端由感應加熱封閉,金絲部分熔融封閉。電極尖端分别由800, 1200, 2400和(hé / huò)4000目的(de)砂紙進行打磨至金絲露出(chū)玻璃。在(zài)1 M HCl溶液中,再通過恒電位(1.1V vs 飽和(hé / huò)甘汞電極持續500秒)溶解出(chū)50 um深的(de)孔洞。孔洞通過去離子(zǐ)水在(zài)*聲條件下進行徹底清洗。空白電極由濃硫酸進行清洗。将粉末填充到(dào)孔洞中壓實把尖端磨平,在(zài)一(yī / yì /yí)個(gè)幹淨的(de)玻璃片上(shàng)進行操作。用20倍的(de)放大(dà)鏡檢查每個(gè)電極确保孔洞充分填滿。用去離子(zǐ)水沖洗留在(zài)電極尖端并且不(bù)在(zài)孔洞内的(de)粉末顆粒。
球磨Pt和(hé / huò)PtRu催化劑
使用高能球磨機制備高比表面積的(de)Pt, Ru和(hé / huò)PtRu催化劑材料。球磨制備的(de)Pt 和(hé / huò)PtRu具有納米晶結構。
制備多晶Pt 和(hé / huò)Ru電極
平整的(de)多晶電極由熔融的(de)鉑絲經過一(yī / yì /yí)系列砂紙和(hé / huò)0.2 um 金剛石研磨膏抛光,*聲波清洗,在(zài)氫氣和(hé / huò)空氣火焰中燒結,再經過10圈循環伏安,50mV/s, 溶液爲(wéi / wèi) 0.1 M H2SO4。多晶Ru棒由細砂紙打磨,金剛石膏和(hé / huò)氧化鋁粉末懸浮液抛光。
交流阻抗測試
每個(gè)電極首先在(zài)0.5 M H2SO4 (Aldrich, 99.999%) 中按照 50 mV/s掃描 500 times對表面進行清洗 (電壓範圍 Pt 爲(wéi / wèi)0.05–1.8 V Pt, PtRu 爲(wéi / wèi)0.05–0.9 V)。經過循環後,阻抗測試範圍爲(wéi / wèi)5 kHz-0.6 Hz,5mV 擾動,在(zài)不(bù)同偏壓下測試雙電層電容。在(zài)每個(gè)阻抗測試前,設置恒電位5 分鍾達到(dào)穩定。所有的(de)電化學測試由普林斯頓273A,1287及輸力強1255 FRA進行。
Fig 1 的(de)複平面圖,是(shì)填充了(le/liǎo)球磨的(de)高比表面積Pt粉末在(zài)硫酸溶液中的(de)測試結果。 插入的(de)圖形爲(wéi / wèi)高頻> 158 Hz,顯示出(chū)45度的(de)斜線表明電極結構中的(de)多孔的(de)存在(zài)。低頻區出(chū)現了(le/liǎo)電容的(de)斜線,總電容裏包含了(le/liǎo)多孔電極貢獻的(de)雙電層電容。0.25-0.8V之(zhī)間的(de)複平面圖表現出(chū)出(chū)類似Fig 1的(de)形狀。當電位低于(yú)0.4V時(shí),由于(yú)氫的(de)欠電位沉積,電容出(chū)現增大(dà)。在(zài)0.25 -0.8 V範圍内,球磨的(de)PtRu也(yě)出(chū)現類似的(de)複平面圖 。但是(shì),由商業化的(de)Pt粉末制備的(de)孔洞電極 (−200目)在(zài)複平面圖中顯示出(chū)直線,高頻并未顯示出(chū)多孔特性。電極材料不(bù)如球磨電極的(de)孔多。
EIS 測量+700mV 到(dào)+100mV範圍内相對于(yú)RHE,頻率範圍爲(wéi / wèi)10 kHz -1 Hz。氫在(zài)Pt電極表面快速動力學,以(yǐ)至于(yú)阻抗譜僅表現出(chū)電容特性,拟合爲(wéi / wèi)低頻阻抗 RLF (RLF ≈ Rs因爲(wéi / wèi)電荷轉移電阻非常小) 串聯低頻電容CLF (CLF = Cdl + Cp )。在(zài)雙電層電勢範圍内, CLF = Cdl。檢查系統的(de)清潔度,由EIS來(lái)計算低頻電容Cdl爲(wéi / wèi) 60.6 F cm−2 。
估算電極孔隙度
關于(yú)交流阻抗更多的(de)信息,孔洞中粉末孔隙率可以(yǐ)由電阻計算而(ér)來(lái),孔的(de)總體積,Vtot,p可以(yǐ)由孔的(de)幾何圓柱體體積計算。
孔的(de)總體積爲(wéi / wèi) Vtot, P=nR2l 。例如,假設孔爲(wéi / wèi)圓柱體l=50 um (孔深度),球磨Pt電極總的(de)孔電阻爲(wéi / wèi)212 歐姆,總的(de)孔體積爲(wéi / wèi)V tot,p 爲(wéi / wèi)5.3x10-⁷cm³。
EIS 測試ECSA的(de)不(bù)确定性
如前面所述電化學方法原位測試ECSA表現出(chū)的(de)巨大(dà)優勢。隻計算了(le/liǎo)與電解質接觸的(de)面積,使用BET計算的(de)氣-固界面則沒有包含在(zài)内。實驗僅使用了(le/liǎo)簡單的(de)EIS測試和(hé / huò)*小二乘法(CNLS) ,即可得到(dào)四個(gè)參數Rp, φ, Rs和(hé / huò)Bp。
實際上(shàng),EIS測試ECSA有兩個(gè)不(bù)确定性因素:
(1) 總電容值(F)到(dào)表面積(cm²)的(de)轉換,假定金屬樣品的(de)比電容60µF cm-²
(2) CPE參數(Tt和(hé / huò)φ)到(dào)平均電容轉換的(de)驗證
結論
交流阻抗作爲(wéi / wèi)快速,原位,非破壞性的(de)電化學測試技術,用于(yú)測試催化劑的(de)電活性面積(ECSA)。經過驗證,EIS和(hé / huò)氫的(de)嵌電位沉積法(UPD)測試得到(dào)的(de)結果類似。同時(shí),EIS也(yě)可以(yǐ)測試多孔微電極的(de)總體積。
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